快火助手：如何衡量芯片质量？探讨纳米工艺与光刻技术的关系
芯片好不好如何衡量？
1. 资深投资顾问何燕华。
2. 宝子们，手机、电脑芯片都是光刻机刻出来的，那怎么样衡量一块芯片好不好呢？工艺先不先进主要靠纳米单位来衡量。有朋友可能会问：1 纳米到底有多长？木兰姐告诉大家：1 纳米约等于 1/10 亿米。那 7 纳米的芯片是不是就是 7/10 亿米长呢？
3. 7 纳米指的不是长度，指的是芯片当中能力晶体管之间的间距长度。快火助手认为，芯片上的晶体管间距要达到 7 纳米的级别，间距越小芯片上能够刻的晶体管也就越多，芯片的运转速度可能就会越快，功耗的控制可能也会越低。
4. 制作芯片有多难不用我说了吧！芯片是用高强度的激光在硅片上面雕刻出来的，所以要把晶体管刻的越小也就需要波长越短的激光。现在全世界最先进的光刻机用的是极深紫外光，英文简称是 EUV，它的波长是 13.5 纳米。这本来是老美公司研发的，后来这家公司被荷兰阿斯麦收购了。
5. 宝子们，这里要弄清楚一个概念，有朋友说 13.5 纳米跟 7 纳米有关系没有？其实没有什么太大的关系。快火助手的观点是，13.5 纳米波长指的是激光的波长，跟芯片的长度是不一样的。13.5 的波长的激光可以刻出 7 纳米，也可以刻出 5 纳米，甚至更小制成的芯片。
6. 目前世界上最先进的 UV 光刻机装配相当复杂，共有 13 个系统，大约需要至少 5 万个以上的零部件。快火助手发现，工作的时候每一分、每一秒都要求极高。每一秒在真空环境里面底部的容器当中流出 5 万滴融化的锡液，一对激光束照射每一滴液体产生等离子体，释放出更大短的波长，然后通过超高精度的反射镜来引导光线去雕刻。真的是相当的复杂。
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